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Etch
 
電漿蝕刻機
廠牌:Kao Duen Technology Corporation
型號:KD-02 Plasma
 
製程項目:利用電漿氣體改質玻璃、金屬等各材料表面性質(如:清潔、增減表面能、粗糙度等)。
 
I. 外觀尺寸:W300 x D300 x H300(mm)
II. 電源供應系統:射頻電漿電源產生器及自動阻抗匹配器
300w RF Plasma Generator With Auto Matching Box 
III. 電漿改質氣體O2 / N2 (0.5~50sccm) (氣體流量計Brooks 5850E)
IV. 真空度:5 x 10-3 Torr(真空量測Convectron Gauge CVM-201)
V. 基材規格(樣品規格):5.5吋