TAF 認證實驗室
06 01 高分子及複合材料
薄膜
M 050 氧氣透過率
ASTM D3985
(0.5 to 1000) cm3 (STP)/m2·d (single cell)
(0.1 to 167) cm3 (STP)/m2·d (six cells combined)
薄膜
M 050 水氣透過率
ASTM F3299 (5×10-5 to 3) g/(m2·d)
塑膠
T 999 熱傳導係數
ISO 22007-2
(0.1 to 12) W/m·K
室溫
Plasma
氣相沉積系統
廠牌：LA CHI ENTERPRISE CO., LTD
型號：KD-02 Plasma
製程項目：
LH300氣相沉積系統設備規格 :
真空沉淀室容積: 300mm X 300mm。
高溫裂解爐 : 2000w。
真空系統規格: 真空馬達:1Ø /220v /50~60Hz。真空度: 5x10-4 Torr 。排氣速度: 200L/min。
聚合沉積室容積 :300mm X 300mm，可供12寸晶圓制程使用