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Plasma

 
氣相沉積系統
廠牌：LA CHI ENTERPRISE CO., LTD
型號：KD-02 Plasma
 
製程項目：
 
LH300氣相沉積系統設備規格 :
真空沉淀室容積: 300mm X 300mm。
高溫裂解爐 : 2000w。
真空系統規格: 真空馬達:1Ø /220v /50~60Hz。真空度: 5x10-4 Torr 。排氣速度: 200L/min。
聚合沉積室容積 :300mm X 300mm，可供12寸晶圓制程使用